Многослойные печатные платы повышенной плотности

Многослойные печатные платы повышенной плотности

При производстве МПП повышенной плотности (High Density Interconnect - HDI) учитывается ряд функциональных особенностей:

  • плотность трассировки увеличивают посредством уменьшения общей ширины проводников и зазоров между ними;
  • применяются различные межслойные многоуровневые переходы, включая глухие и слепые отверстия;
  • используются диэлектрики сверхтонкого типа RCC.

Факторы, стимулирующие развитие отрасли HDI плат

Среди основных факторов числится необходимость одновременного увеличения количества выводов сложных компонентов, межслойных соединений и уменьшения общей площади диэлектрика. Снижение количества выводных компонентов, а также корпусная миниатюризация – еще одни факторы, влияющие на актуальность развития технологии HDI.

Область применения

  •  Высокосложные устройства мобильной связи
  • Системы особого военного назначения
  • Компактные системы наблюдения/слежения
  • Высокосложные устройства мультимедиа
  • Портативные медицинские датчики и детекторы

Конструкционные возможности

МПП высокой плотности состоят из определенного количества последовательно чередующихся токопроводящих рисунков и диэлектрических слоев. Основное отличие HDI от обычных многослойных печатных плат, заключается в использовании ультратонкой фольги и фольгированного материала с небольшой диэлектрической толщиной. Средняя ширина проводников в пластине – 0,1 мм. Как следствие - возможность производить различные элементы топологии высокого разрешения.

В некоторых моделях МПП применяют при изготовлении диэлектрические материалы на основе неармированных (стекловолокном) эпоксидных смол. Такие печатные платы называются RCC (покрытая смолой фольга из меди).

Материалы

При создании МПП высокой плотности, в зависимости от требуемых технологических характеристик и нюансов эксплуатации, используют стеклотекстолит:

  • FR4 140˚ температуры стеклования – ShengYi [S1141], толщиной фольги 18-140 мкм.
  • FR4 170˚ температуры стеклования - ShengYi [S1170], фольгированная толщина которого 18-105 мкм.
  • FR4 Halogen Free - ShengYi [S1155] с толщиной фольги 35 мкм и пр.

Особенности технологии производства

Зачастую HDI платы изготавливают послойным методом наращивания и/или попарным прессованием. С чем это связано? Связано это с тем, что существует необходимость создания в структуре платы двух различных видов межслойных переходов:

  • глухого – между внутренними и наружными слоями (deaf);
  • слепого – между внутренними слоями (blind).

Что касается производственного оборудования, то современные МПП высокой плотности создаются с использованием лазеров. При этом, лазерное сверление внешних, внутренних слоев способствует формированию глухих лазерных микроотверстий, которые последовательно накрываются следующими слоями и превращаются в слепые. Если возникает парное прессование, отверстия высверливаются и подвергаются процессу металлизации.

Использование комбинированных и субтрактивных методов стало возможным после разработки технологий производства тонкомерной фольги. В результате, облицовывание диэлектриков тонкомерной фольгой (5-12 мкм) позволило значительно снизить цены на HDI платы. 

Технологические характеристики

Возможности технологий

Ограничения

Количество слоев

до 64

Толщина, мм

0,1-8

Максимальный типоразмер, мм

800×1100

  Допуски:

  толщины, %

± 5

  размеров пластин, мм

± 0,05

  контроля импеданса, %

± 10

   диаметров отверстий (металлизированных), мм

± 0,051

  диаметров отверстий (не металлизированных), мм

± 0,076

  диаметров отверстий под запрессовку, мм

± 0,051

  ширины проводников, %

± 20

Отношение толщины плат к диаметру металлизированных отверстий

от 12:1 до 20:1

  Минимальные значения:

  ширины проводников, мм

0,075

  зазора, мм

0,09

  медных ободков отверстий, мм

0,1

  диаметров лазерных отверстий, мм

0,075-0,1

  диаметров сквозных отверстий, мм

0,1

  диаметров отверстий для заполнения медью, мм

0,4

  расстояния «проводники - вскрытия масок», мм

0,05

  высоты шелкографического текста, мм

1

  вскрытий «маски - площадка», мм

0,035

Отношение диаметра к глубине лазерных отверстий

1:1

Ширина линий шелкографии, мм

0,1

     Максимальное значение диаметров отверстий для заполнения медью,   мм   

0,7

Источник:​ http://saifontech.ru/