Многослойные печатные платы были созданы для упрощения и оптимизации разводки соединений двухсторонних диэлектрических пластин. Увеличение интеграции микросхем, обеспечение значительного числа межслойных соединений, а также внедрение корпусов с большим количеством выводов - все это стало первопричиной создания и интенсивного развития технологий МПП.
По мере усложнения моделей и технологических требований, увеличилось не только качество, но и общее число слоев. В результате, усложненные многослойные печатные платы могут иметь 30-32 слоя.
Применяются МПП в устройствах высокой частоты с регламентированным импедансом сигнальных цепей и допустимым уровнем электромагнитных помех.
Среди основных материалов многослойных печатных плат числятся:
Среди базовых материалов возможно комбинирование. Например: использование в гибко-жестких печатных платах полиимид (PI) со стеклотекстолитом FR-4.
Основа конструкции – это чередующиеся тонкие диэлектрические слои в сочетании с элементами топологии. При создании слои соединяются в единую, целостную многослойную пластину.
Электрические соединения, в зависимости от техники прессования, могут иметь как переходные отверстия сквозного типа, так и межслойные переходы:
Любая многослойная конструкция ПП состоит из 2-х элементов:
Еще одно название – монтажные. Сущность слоя: установка компонентов и организация соединений между расположенными в непосредственной близости элементами платы
Представляются в виде сплошных полигонов. Имеют минимальные показатели сопротивления тока и небольшую индукцию. Способствуют экранированию сигнальных слоев.
Позволяют создать электронные соединения между компонентами. Особенность: значительные показатели плотности линий связи
Отводят и распределяют избытки тепла компонентов схемы, имеющих увеличенные технологические значения тепловыделения
Основным считается способ попарного прессования ядерных заготовок – тонких двухсторонних плат определенной топологии. Метод реализуется с использованием прокладочной стеклоткани.
Послойное наращивание/металлизация отверстий ядра (сквозного типа) происходит субтрактивным химическим методом. В качестве защитного покрытия применяются фоторезисты.
Источник: http://saifontech.ru/